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国内光刻胶整体技术水平与国际先进水平仍存在较大差距，自给率仅10%，主要集中于技术含量相对较低的PCB领域，6英寸硅片的g/i线光刻胶的自给率约为20%，8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，12寸硅片的ArF光刻胶目前尚没有国内企业可以大规模生产。
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