电子行业半导体设备系列：薄膜生长设备，国产突破可期-20210629-国盛证券-21页

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电子行业半导体设备系列：薄膜生长设备，国产突破可期-20210629-国盛证券-21页

# 电子 # 半导体设备 # 薄膜大小：1.62M | 页数：21 | 上架时间：2021-06-30 | 语言：中文

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类型: 行研

上传者: 资料分享客栈

撰写机构: 国盛证券

出版日期: 2021-06-29

摘要：

薄膜生长是采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程，常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同，薄膜沉积生长设备可分为：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积（CVD）和外延等类别。大部分绝缘薄膜使用CVD，金属薄膜常用PVD（主要是溅射）。CVD 的使用越来越广泛，基于CVD发展的ALD 更是行业升级的技术方向。

2020 年全球薄膜设备市场达到138 亿美元，占IC 制造设备21%；其中主要是CVD 和PVD，合计占IC 制造设备18%。其中，CVD 市场规模高度89 亿美元，主流是设备包括PECVD、Tube CVD、LPCVD 和ALD 等。整个薄膜市场市占率最高的是AMAT。高端领域如ALD 受ASM、TEL 和Lam 等海外龙头主导。国内布局IC制造领域薄膜设备的主要国产厂商包括北方华创和沈阳拓荆。

CVD 市场主要由海外龙头主导，国内北方华创、沈阳拓荆积极布局。根据Gartner数据，全球CVD 市场前五大供应商包括AMAT（28%）、Lam Research（25%）、TEL（17%）、Kokusai（原日立高新，8%）、ASM（11%）。国内半导体设备龙头北方华创、沈阳拓荆在该领域也有布局。CVD 市场主要由海外龙头主导，国内北方华创、沈阳拓荆积极布局从PVD 市场格局来看，AMAT 一家独大，长期占据约80%的市占率，2020 年北方华创的半导体PVD 设备全球市占率为3%，属于国内领先地位。

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